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NPS System(New Plasma Source System)은 고밀도 Plasma Beam을 기반으로
고효율의 Perovskite Solar Cell 생산을 위한 투명 전도성 산화물(TCO) 증착 설비입니다.

New Plasma
Source System

경쟁력

  • Point 01

    전문 엔지니어들의 다년 간의 R&D로 터득한
    Know-how를 통해 최적의 H/W 설계 및 공정 Consulting 제공
    (R&D System 및 Measuring instrument 보유)

    Solar-Cell(NPS) 경쟁력 아이콘
  • Point 02

    우수한 성능 및 생산성을 기반으로 Solar Cell 시장 내
    다양한 Big Customer를 대상으로 Sales Reference 보유

    Solar-Cell(NPS) 경쟁력 아이콘

New Plasma
Source

2,400x1,200mm 대면적 Perovskite Solar Cell 용 저온 증착 설비

  • New Plasma Source 이미지
  • New Plasma Source 이미지

Technology

Technology Particle Energy Productivity Process Temp Transmittance Surface
Roughness		 Application
NPS 20~30 eV High <150 88.0%@150℃ Ra : 0.15nm Low Temp.
Process
Sputter ≤ 10eV Low >200 88.5%@200℃ Ra : 0.51nm High Temp.
Process

Advantages of
NPS Process

  • Advantages of NPS Process 이미지
    Advantages of NPS Process 이미지
Advantages of NPS Process 아이콘
NPS

New Plasma Source

  • Smooth Surface

    Super Smooth Surface Performance
    (Better Performance for Down Stream Process)

  • Low Temperature & Plasma Damage

    Prevent degradation of
    sub-layer by heat and plasma

  • High Productivity

    Continuous production through source
    material supply without vacuum break

    High yield by superior system stability & reliability

    Easy Preventive Maintenance

  • Excellent Film Quality

    High quality of electrical &
    optical properties than sputtering process